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我公司是一家专业化的研磨抛光材料生产企业，长期致力于氧化铝材料的研制开发。公司拥有自主知识产权的CA（平板状氧化铝）产品的专利技术，居国内领先水平。 CA（烧结平板状氧化铝微粉）采用独特的生产工艺，使其颗粒尺寸更均匀。CA的晶体形状为六角平板状，区别于传统磨料的等积型或球形，这种形状使磨料颗粒在研磨运动中平行于被加工工件表面，产生滑动的研磨效果，而非传统磨料的滚动研磨，因而不容易对工件表面产生随机划伤。同时，由于研磨压力是均匀分布在平板状磨粒表面，颗粒破碎减少，耐磨性大幅提高，因而能提供最佳的磨削效率和表面光洁度。实验表明，CA研磨粉能够减少研磨和抛光次数至少10－20％，能够实现快速研磨和抛光，建议客户在使用时以传统磨料的60%用量为起点。 CA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶 片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器（LCD）玻璃基板、压电石英晶体、化合物半导体材料（砷化镓、磷化铟）、磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高档　　　R材料。 我公司严格按照ISO9001标准进行产品质量管理，实施全程质量监控，在关键点引入SPC质控体系。同时我公司有先进的检测设备Coulter MultisizerⅡ，产品按日本JIS标准执行，CA系列产品达到日本Fujimi的PWA标准。产品稳定供应美国、欧洲、日本、韩国及国内客户，国内用户已逐步用我公司产品替代进口。 下列为国际知名公司及产品(我公司CA产品等同或优于其同类产品): Fujimi的PWA Microgrit的WCA KCA的White Calcined Alumina Logitech的Platelet Calcined Alumina Electro Abrasives的White Calcined Alumina

CA（烧结平板状氧化铝微粉）采用独特的生产工艺，使其颗粒尺寸更均匀。CA的晶体形状为六角平板状，区别于传统磨料的等积型或球形，这种形状使磨料颗粒在研磨运动中平行于被加工工件表面，产生滑动的研磨效果，而非传统磨料的滚动研磨，因而不容易对工件表面产生随机划伤。同时，由于研磨压力是均匀分布在平板状磨粒表面，颗粒破碎减少，耐磨性大幅提高，因而能提供最佳的磨削效率和表面光洁度。实验表明，CA研磨粉能够减少研磨和抛光次数至少10－20％，能够实现快速研磨和抛光，建议客户在使用时以传统磨料的60%用量为起点。
CA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶 片、显像管玻壳玻屏、光学玻璃、液晶显示器（LCD）玻璃基板、压电石英晶体、化合物半导体材料（砷化镓、磷化铟）、磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高档　　　R材料。